Podcast
Questions and Answers
Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych zapewnia największą jednorodność rozprowadzonego na płytkach ciepła?
Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych zapewnia największą jednorodność rozprowadzonego na płytkach ciepła?
- Plazma (np. w reaktorze do PECVD)
- Grzałki elektryczne (konwencjonalny piec)
- Promieniowanie (RTP/RTA)
- Piece pionowe (correct)
Która z poniższych stwierdzeń dotyczących procesu utleniania termicznego krzemu jest nieprawdziwa?
Która z poniższych stwierdzeń dotyczących procesu utleniania termicznego krzemu jest nieprawdziwa?
- Umożliwia uzyskanie tlenku kondensatorowego (np. DRAM).
- Tworzy się nowa warstwa izolacyjna na powierzchni płytki.
- Powierzchnia płytki krzemowej pozostaje niezmieniona. (correct)
- Umożliwia uzyskanie tlenku podkładowego dla technologii LOCOS.
Która z poniższych zależności nie ma wpływu na kinetykę procesu utleniania termicznego?
Która z poniższych zależności nie ma wpływu na kinetykę procesu utleniania termicznego?
- Przepływ gazów reagujących
- Czas
- Temperatura
- Skład chemiczny płytki (correct)
W jaki sposób w wyrzutni elektronowej (e-gun) osiąga się wysokie temperatury umożliwiające nanoszenie metali trudnotopliwych?
W jaki sposób w wyrzutni elektronowej (e-gun) osiąga się wysokie temperatury umożliwiające nanoszenie metali trudnotopliwych?
Która z poniższych metod osadzania umożliwia precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?
Która z poniższych metod osadzania umożliwia precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?
Co jest główną zaletą stosowania plazmy w procesie PECVD w porównaniu z termicznym CVD?
Co jest główną zaletą stosowania plazmy w procesie PECVD w porównaniu z termicznym CVD?
Która z poniższych technik osadzania warstw wykorzystuje strategię samoograniczających się reakcji chemicznych?
Która z poniższych technik osadzania warstw wykorzystuje strategię samoograniczających się reakcji chemicznych?
Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych umożliwia najkrótszy czas nagrzewania?
Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych umożliwia najkrótszy czas nagrzewania?
Która z poniższych aplikacji nie wykorzystuje procesu utleniania termicznego krzemu?
Która z poniższych aplikacji nie wykorzystuje procesu utleniania termicznego krzemu?
Która z poniższych metod osadzania warstw nie pozwala na precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?
Która z poniższych metod osadzania warstw nie pozwala na precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?
