10 Questions
Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych zapewnia największą jednorodność rozprowadzonego na płytkach ciepła?
Piece pionowe
Która z poniższych stwierdzeń dotyczących procesu utleniania termicznego krzemu jest nieprawdziwa?
Powierzchnia płytki krzemowej pozostaje niezmieniona.
Która z poniższych zależności nie ma wpływu na kinetykę procesu utleniania termicznego?
Skład chemiczny płytki
W jaki sposób w wyrzutni elektronowej (e-gun) osiąga się wysokie temperatury umożliwiające nanoszenie metali trudnotopliwych?
Poprzez wykorzystanie wiązki elektronowej o dużej energii
Która z poniższych metod osadzania umożliwia precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?
MBE (Molecular Beam Epitaxy)
Co jest główną zaletą stosowania plazmy w procesie PECVD w porównaniu z termicznym CVD?
Niższa temperatura wzrostu
Która z poniższych technik osadzania warstw wykorzystuje strategię samoograniczających się reakcji chemicznych?
ALD (Atomic Layer Deposition)
Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych umożliwia najkrótszy czas nagrzewania?
Promieniowanie (RTP/RTA)
Która z poniższych aplikacji nie wykorzystuje procesu utleniania termicznego krzemu?
Warstwy izolacyjne w tranzystorach bipolarnych
Która z poniższych metod osadzania warstw nie pozwala na precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?
Termiczne CVD
Ten quiz dotyczy nanotechnologii w mikroelektronice i fotonice, ze szczególnym naciskiem na wymagania dotyczące czystości technologicznej podczas realizacji technologii półprzewodnikowych. Pytania obejmują m.in. procesy nanoskopijne, sadzanie warstw, trawienie materiałów oraz wpływ zanieczyszczeń na elementy wytwarzane w nanoskalę.
Make Your Own Quizzes and Flashcards
Convert your notes into interactive study material.
Get started for free
