Recent Lessons

Show all results for ""

Feature Overview

Ace your exams with our all-in-one platform for creating and sharing quizzes and tests.

Quizzes

Create quizzes and tests automatically from your content using AI.

Flashcards

Automatically turn your notes into digital flashcards.

Share, Export & Embed

Share with classmates or export to Excel and your learning management system.

Stats & Reporting

Auto-grading quizzes and tests with detailed stats and reports.

Mobile Apps

The smarter way to study – wherever you are.

Pricing

Search...

Nanotechnologia w Mikroelektronice i Fotonice Quiz

10 Questions

26 Views

Nanotechnologia w Mikroelektronice i Fotonice Quiz

Choose a study mode

Play Quiz

Study Flashcards

Spaced Repetition

Chat to lesson

Podcast

Play an AI-generated podcast conversation about this lesson

Questions and Answers

Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych zapewnia największą jednorodność rozprowadzonego na płytkach ciepła?

Plazma (np. w reaktorze do PECVD)

Grzałki elektryczne (konwencjonalny piec)

Promieniowanie (RTP/RTA)

Piece pionowe (correct)

Która z poniższych stwierdzeń dotyczących procesu utleniania termicznego krzemu jest nieprawdziwa?

Umożliwia uzyskanie tlenku kondensatorowego (np. DRAM).

Tworzy się nowa warstwa izolacyjna na powierzchni płytki.

Powierzchnia płytki krzemowej pozostaje niezmieniona. (correct)

Umożliwia uzyskanie tlenku podkładowego dla technologii LOCOS.

Która z poniższych zależności nie ma wpływu na kinetykę procesu utleniania termicznego?

Przepływ gazów reagujących

Czas

Temperatura

Skład chemiczny płytki (correct)

W jaki sposób w wyrzutni elektronowej (e-gun) osiąga się wysokie temperatury umożliwiające nanoszenie metali trudnotopliwych?

Poprzez wykorzystanie wiązki elektronowej o dużej energii Signup and view all the answers

Która z poniższych metod osadzania umożliwia precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?

MBE (Molecular Beam Epitaxy) Signup and view all the answers

Co jest główną zaletą stosowania plazmy w procesie PECVD w porównaniu z termicznym CVD?

Niższa temperatura wzrostu Signup and view all the answers

Która z poniższych technik osadzania warstw wykorzystuje strategię samoograniczających się reakcji chemicznych?

ALD (Atomic Layer Deposition) Signup and view all the answers

Która z poniższych metod dostarczania energii do procesów technologicznych umożliwia najkrótszy czas nagrzewania?

Promieniowanie (RTP/RTA) Signup and view all the answers

Która z poniższych aplikacji nie wykorzystuje procesu utleniania termicznego krzemu?

Warstwy izolacyjne w tranzystorach bipolarnych Signup and view all the answers

Która z poniższych metod osadzania warstw nie pozwala na precyzyjną kontrolę powstawania warstw o grubości mierzonej w skali atomowej/cząsteczkowej?

Termiczne CVD Signup and view all the answers