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Questions and Answers
在反型层中,响应电荷的主要来源是什么?
在反型层中,响应电荷的主要来源是什么?
在低频下,SCR宽度和QB的变化很大。
在低频下,SCR宽度和QB的变化很大。
False
反型层的电导与哪些因素有关?
反型层的电导与哪些因素有关?
主要与载流子电荷(QI)、电离杂质电荷(QB)以及栅压(VG)有关。
在强反型时,QI在很薄的一层内随ψS【_____】变化。
在强反型时,QI在很薄的一层内随ψS【_____】变化。
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匹配以下电荷与其定义:
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在强反型时,电容(涉及CS)的特性是什么?
在强反型时,电容(涉及CS)的特性是什么?
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在高频条件下,C/Co的值与接地极板类似。
在高频条件下,C/Co的值与接地极板类似。
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低频条件下,反型层的电容与什么因素的比值可近似为1?
低频条件下,反型层的电容与什么因素的比值可近似为1?
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在MOS电容的模型中,什么时候会出现耗尽层?
在MOS电容的模型中,什么时候会出现耗尽层?
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在MOS电容中,反型层的电荷完全由杂质电离产生。
在MOS电容中,反型层的电荷完全由杂质电离产生。
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在MOS电容中,电介质弛豫时间τd大约是多长时间?
在MOS电容中,电介质弛豫时间τd大约是多长时间?
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MOS电容的电荷_____的变化与频率相关。
MOS电容的电荷_____的变化与频率相关。
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将下列时间常数与其特征匹配:
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以下哪个选项不是反型层的电荷组成?
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随着VG的增加,MOS电容的归一化电容C/Co通常会降低。
随着VG的增加,MOS电容的归一化电容C/Co通常会降低。
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在MOS结构中,影响归一化电容变化的一个主要因素是什么?
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MOS电容中,反型层是_____层。
MOS电容中,反型层是_____层。
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将以下层级与其功能匹配:
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在Si/SiO2界面处,正电荷和负电荷之间的关系如何表示?
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在施加负栅极电压VG2的情况下,能带可以保持平直状态。
在施加负栅极电压VG2的情况下,能带可以保持平直状态。
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在氧化层中,正电荷的电荷体密度表示为什么?
在氧化层中,正电荷的电荷体密度表示为什么?
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QO等于____的积分,从0到xO的ρ(x)。
QO等于____的积分,从0到xO的ρ(x)。
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将以下符号与对应的定义配对:
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计算平带电压VG2的公式为?
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如果x趋近于0,则VG2也会趋近于0。
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使能带平直所需施加的负栅极电压VG2与什么相关?
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以下哪个选项正确描述了阈值电压的定义?
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当VG大于VTH时,沟道电荷会出现。
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微分电导的公式是什么?
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阈值电压的符号为 ______。
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将以下电导公式与其对应的描述匹配:
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下列哪个选项是影响MOS的C-V特性的因素?
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在栅极施加零电压时,能带会平直。
在栅极施加零电压时,能带会平直。
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沟道电荷面密度的公式是什么?
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对于强反型,当VG大于 ______,沟道电荷才会出现。
对于强反型,当VG大于 ______,沟道电荷才会出现。
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阈值电压可以通过以下哪个公式计算?
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平带电压VFB与阈值电压VTH的关系是什么?
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在实际MOS中,阈值电压VTH一定大于0。
在实际MOS中,阈值电压VTH一定大于0。
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在C-V曲线中,平带电压对曲线的影响是什么?
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在MOSFET中,______影响金属和半导体的功函数差。
在MOSFET中,______影响金属和半导体的功函数差。
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将以下参数与其描述进行匹配:
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氧化层电容Co的计算公式为?
氧化层电容Co的计算公式为?
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在N型Si衬底的MOSFET中,无法使用Al作为栅极材料。
在N型Si衬底的MOSFET中,无法使用Al作为栅极材料。
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影响氧化层中正电荷的因素是什么?
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当强反型发生时,______降落在氧化层上。
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计算氧化层电荷Qo时需要用到哪个值?
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阈值电压 VTH 是如何计算的?
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VG1 的值永远大于 0。
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在高频条件下,阈值电压 VG1 应该更高还是更低才能实现反型?
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界面陷阱电荷Qit与半导体表面的________有关。
界面陷阱电荷Qit与半导体表面的________有关。
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将以下现象与其对应的电荷类型匹配:
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以下哪种情况会导致氧化物电荷Qf的变化?
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氧化物陷阱电荷主要是由于界面缺陷引起的。
氧化物陷阱电荷主要是由于界面缺陷引起的。
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在 {100} 面上,界面陷阱电荷 Qit 的典型值是多少?
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在{111}面上,氧化物固定电荷Qf的值大约为_________,单位是cm-2。
在{111}面上,氧化物固定电荷Qf的值大约为_________,单位是cm-2。
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电荷Qm与下列哪种情况相关?
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Study Notes
MOSFET (金属-氧化物-半导体场效应晶体管)
- MOSFET 是大规模集成电路中的主流器件。
- 早在 20 世纪 30 年代初,Lienfeld 和 Heil 就提出了表面场效应晶体管的原理。
- 20 世纪 40 年代末,Shockley 和 Pearson 对 MOSFET 进行了深入研究。
- 1960 年,Kahng 和 Alalla 使用热氧化硅结构成功制造出了第一只 MOSFET。
- MOSFET 的英文缩写词还有 IGFET (绝缘栅场效应晶体管) 和 MISFET (金属-绝缘体-半导体场效应晶体管) 等。
- MOSFET 的实质是用 MOS 电容取代了 JFET 的 PN 结。
MOS 结构的表面空间电荷区
- 氧化物及界面处无电荷。
- 金属和半导体之间功函数差为零。
- SiO2 具有良好的绝缘体特性,可以阻止直流电流通过。
- 如果没有外加偏压,半导体能带平直。
MOSFET 类型
-
N 型增强型(常断):
- 静态情况下,源极和漏极之间没有电流。
- 需要施加正的栅极电压(VG)才能打开沟道,形成电流。
-
N 型耗尽型(常通):
- 静态情况下,源极和漏极之间存在较小的电流。
- 无需施加栅极电压,内部就有导电通道。
-
P 型增强型(常断):
- 静态情况下,源极和漏极之间没有电流。
- 需要施加负的栅极电压(VG)才能打开沟道,形成电流。
-
P 型耗尽型(常通):
- 静态情况下,源极和漏极之间存在较小的电流。
- 无需施加栅极电压,内部就有导电通道。
MOSFET 的 C-V 曲线
- C-V 曲线是研究半导体表面性质的重要方法。
- 曲线反映了 MOSFET 的电容随栅极电压的变化。
- 不同的区域(如积累、耗尽、反型)对应不同的 C-V 特性。
MOSFET 的 I-V 曲线
- I-V 曲线描述了 MOSFET 的电流随电压的变化。
- 不同的工作区域(如线性区、饱和区、截止区)对应不同的 I-V 特性。
- I-V 曲线可以用来评估 MOSFET 的性能参数,例如沟道长度调制效应。
MOSFET 的非理想效应
- 随着器件尺寸的缩小,许多非理想效应变得突出。
- 包括亚阈值效应、漂移速度饱和效应等,这些效应会影响器件性能。
MOSFET 的等效电路和频率响应
- 等效电路可以简化分析 MOSFET 在交流信号下的行为。
- 频率响应会影响 MOSFET 的放大性能。
MOSFET 的按比例缩小理论
- 维持恒定电场时,缩小 MOSFET 可能会影响其性能,尤其是在短沟道效应、亚阈值效应等方面。
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Description
本测验旨在测试您对MOSFET(金属-氧化物-半导体场效应晶体管)基础知识的理解。通过一系列问题,您将能巩固对MOSFET类型、结构及其工作原理的掌握,适合电子工程和半导体物理专业的学生。